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消息稱(chēng)臺(tái)積電 2nm 今年底月產(chǎn)能 4~5 萬(wàn)片晶圓,2026 年增至 9~10 萬(wàn)片

2025年7月22日 08:47  IT之家  作 者:溯波(實(shí)習(xí))

綜合《經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)》和 ChosunBiz 兩家媒體的報(bào)道,臺(tái)積電當(dāng)下最先進(jìn)的 2nm 制程工藝在今年下半年量產(chǎn)后到今年末的產(chǎn)能將達(dá) 40000~50000 WPM(晶圓 / 月)。

在 2026 年,臺(tái)積電的目標(biāo)是將 2nm 月產(chǎn)能提升到 9~10 萬(wàn)片;到 2027 年則進(jìn)一步增至 16~18 萬(wàn)片,且有通過(guò)產(chǎn)線(xiàn)擴(kuò)充觸及 200000 WPM 的可能,屆時(shí)或成為該企業(yè)產(chǎn)能最高的先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn),“搖錢(qián)樹(shù)”日益茁壯成長(zhǎng)。

▲ 臺(tái)積電當(dāng)下 2nm 主力廠區(qū) Fab20 鳥(niǎo)瞰渲染圖

臺(tái)積電的 2nm N2 工藝是其首個(gè) GAA 晶體管節(jié)點(diǎn),實(shí)現(xiàn)了全制程節(jié)點(diǎn)級(jí)的性能和功耗進(jìn)步。分析機(jī)構(gòu) Counterpoint 此前預(yù)計(jì),這一節(jié)點(diǎn)有望以四個(gè)季度刷新先進(jìn)制程商業(yè)化產(chǎn)能滿(mǎn)載速度的記錄,并實(shí)現(xiàn)最高的前兩年流片數(shù)量。

編 輯:路金娣
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